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超声波清洗技术的新进展

作者: admin 时间:2019-06-25 来源:未知
摘要:超声波清洗技术的新进展 1.高频超声波清洗 对于硅晶片表面上几微米级的非常细小的灰尘颗粒,增加功率密度没有帮助,但是传统的超声波清洁器不能做任何事情。 最近,开发了兆赫...

  超声波清洗技术的新进展

 

  1。高频超声波清洗

 

  对于硅晶片表面上几微米级的非常细小的灰尘颗粒,增加功率密度没有帮助,但是传统的超声波清洁器不能做任何事情。 最近,开发了兆赫级的高频超声波清洗技术。由于频率高,空化效应不再有效。因此,清洁的关键不是气泡,这是高频压力波的清洁作用,并且除尘率接近100%。近年来,高频清洗迅速发展,主要用于清洗非常大的集成电路芯片上的污垢以及清洗特殊污染物,如硅晶片,陶瓷和光掩模。

 

  2.强化清洁

 

  为微多孔材料的清洁,如喷丝板和在纺织工业中的过滤器,而传统的超声波清洁效果非常不满意seureopgo声音电平不符合要求的,利用机械扫描聚焦超声波清洗和微孔喷丝板是非常清晰。 聚焦清洁需要高声强,并且当前选择的频率主要是低频。通常,使用两种类型的频率,20kHz和15kHz,单独频率为28kHz。在连续波的情况下功率通常为500-700W,并且间隙脉冲的操作条件可能更高。

 

  3.多频清洁

 

  两个或多个具有不同频率的换能器安装在洗涤剂罐中,并且每个发生器由每个频率的换能器驱动。 当垫圈的工作频率高时,液体的空化强度低并且空化密度高,但是当工作频率低时反向发生。低频超声波强度高,适合清洁物体表面。高频超声空化密度高,冲击波可以通过微观结构,如凹槽,狭缝和深孔。同时,克服了由于单频驻波引起的不均匀清洁的问题。

 

  4。频率和跳频清扫扫频

 

  扫频和跳频清扫都旨在改善插槽的声场结构。 电子分解槽的不均匀正常波场,使清洗均匀,跳频和多频率考虑高频和低频清洗。不同之处在于跳频使用传感器和发生器,而传感器本身具有两个共振频率。

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